优惠期新制于今年5/1日开始上路 - 由于专利申请所需的可专利性要件，系包含「新颖性」与「进步性」，如果专利在申请前已经公开曝光，则会丧失「新颖性」，故专利法规定创作应该要在所公开专利技术的一定期限内申请，以确保符合新颖性、进步性要件，而这段期间就称之为「优惠期」。

　　新修法的「优惠期」条文，已于今年的5月1日后适用，如下图所示，优惠期将自原本6个月放宽至12个月；而适用的样态则取消原本的4种态样；而申请专利时，也不需要声明主张优惠期，只需要在申请时有疑虑时举证补件便可。而且，5月1日后的专利申请案可回溯至一年内公开发表的专利技术，也可不必先行声明主张，遇争议仍可事后补件进行举证。

          

                                    图一 照片摘自：智慧财产局

　   需特别注意，新版的「优惠期」跟过去一样，申请人如果在优惠期间12个月内遇上他人独自开发出相同创作，因不能以对方的公开时间作为自己主张专利的优惠期，而失去专利必备的「新颖性」、「进步性」等特性，申请发明专利通过的机率也会大为降低，如下图所示者。

          

 

 

      当初是我国为了争取加入跨太平洋伙伴协议(TPP)，拟采取跟美国、日本现行一致的专利优惠期限12个月的制度，后来因考虑对学术研究有利，为了保障研究人员的权益、鼓励研发，才持续修法。

　　但须特别注意的是，优惠期仅是一种补救措施，即仅提供申请人来不及在专利公开(实验公开、刊物发表、展览)前申请专利的权宜之计，在作全球专利布局时，会遭遇到优惠期证明文件的适不适格的问题，例如：中国大陆对优惠期证明文件的认定相当地严格，若将主张优惠期视为专利申请上的常态，将会衍申出专利申请上的瑕疵问题。

　　结论：纵使国内的优惠期立意良善，那也是非得要主张时才主张，而专利申请人应要回归正常的申请方式，即在专利公开(实验公开、刊物发表、展览)前就应实时快速提出相关专利申请，以免在作专利全球布局时将招致一些难题(专利范围大小、专利城持及专利组合困难) 。

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关键词：国内专利制度    专利优惠期